Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 3 záznamů.  Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Elektronová litografie na nevodivých substrátech
Hovádková, Zuzana ; Šamořil, Tomáš (oponent) ; Dvořák, Petr (vedoucí práce)
Elektronová litografie zažívá v posledních letech velký rozmach, zejména díky možnosti vytvořit velké struktury s přesným rozlišením. Tato práce se zabývá elektronovou litografií na nevodivých substrátech, a to konkrétně na skle. Litografie na skle má využití zejména v biologii, kde je potřeba transparentních substrátů pro světlo, které jsou zároveň netoxické pro růst buněk. V experimentální části jsou ukázány dva způsoby kompenzace akumulovaného náboje a porovnány možnosti jejich dalšího využití.
Elektronová litografie na nevodivých substrátech
Hovádková, Zuzana ; Šamořil, Tomáš (oponent) ; Dvořák, Petr (vedoucí práce)
Elektronová litografie zažívá v posledních letech velký rozmach, zejména díky možnosti vytvořit velké struktury s přesným rozlišením. Tato práce se zabývá elektronovou litografií na nevodivých substrátech, a to konkrétně na skle. Litografie na skle má využití zejména v biologii, kde je potřeba transparentních substrátů pro světlo, které jsou zároveň netoxické pro růst buněk. V experimentální části jsou ukázány dva způsoby kompenzace akumulovaného náboje a porovnány možnosti jejich dalšího využití.
Electrostatic mini SLEEM for surface studies
Romanovský, Vladimír ; El-Gomati, M.
Exploitation of the low-energy electrons is advantageous for several reasons. One of them is their smaller penetration depth into the material, which reveals itself as favourable for the surface analysis. Using the low-energy electrons even causes partial, and in some cases total elimination ofcharging effects at non-conductive or slightly conductive specimens. Slowprimary electrons (PE) cause only reduced radiation damage of specimens.

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.